Diclorosilano DCS (SiH2Cl2)
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ContattaciSpecifiche
| Purezza, % | 99 | 99,9 |
| Resistività tipica | ≥ 200 ohm-cm | ≥ 400 ohm-cm |
| Monoclorosilano | ≤ 0,2% | ≤ 100 pm |
| Triclorosilano | ≤ 0,5% | ≤ 200 pm |
| Tetracloruro di silicio | ≤ 0,1% | ≤ 100 pm |
| Altri clorosilani | ≤ 1% in peso | ≤ 500 pm |
Informazioni tecniche
| Stato del cilindro a 21,1°C | Liquido |
| Limiti di infiammabilità nell'aria | 4,1-98,8% |
| Temperatura di autoaccensione (°C) | 100 |
| Peso molecolare (g/mol) | 101.01 |
| Peso specifico (aria = 1) | 3.47 |
| Temperatura critica ( °C ) | 175,85 |
| Pressione critica (psig) | 678.2 |
Descrizione
Il diclorosilano, o DCS come è comunemente noto, è un composto chimico con formula H₂SiCl₂. Nel suo utilizzo principale, viene miscelato con ammoniaca (NH₂) in camere LPCVD per la crescita del nitruro di silicio nella lavorazione dei semiconduttori. Una concentrazione più elevata di DCS·NH₂ (ovvero 16:1) si traduce solitamente in film di nitruro con minore stress.
Il diclorosilano deve essere ultrapurificato e concentrato per poter essere utilizzato nella produzione di strati epitassiali di silicio semiconduttore, utilizzati per la microelettronica. L'accumulo di strati di silicio produce strati epitassiali spessi, che creano una struttura resistente. Il diclorosilano viene utilizzato come materiale di partenza per gli strati di silicio semiconduttore utilizzati nella microelettronica. Viene utilizzato perché si decompone a temperature più basse e ha una maggiore velocità di crescita dei cristalli di silicio.
È un gas chimicamente attivo, che si idrolizza facilmente e si autoinfiamma a contatto con l'aria. Il diclorosilano è anche molto tossico e qualsiasi esperimento che ne preveda l'uso richiede misure preventive. I rischi per la sicurezza includono anche irritazione cutanea e oculare e inalazione.
Applicazioni
● SiH2CL2 è un gas precursore del silicio utilizzato in combinazione con l'ammoniaca per la deposizione chimica da vapore del nitruro di silicio (CVD).
● Utilizzato anche per la deposizione epitassiale di silicio.