difluorure de xénon (XeF2)
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Contactez-nousCaractéristiques
| Apparence | cristaux blancs et solides, à l'odeur piquante/d'ozone. | |||||||
| Densité | 4,32 kg/L | |||||||
| Point de fusion | 128,6 °C | |||||||
| point d'ébullition | 114°C | |||||||
| Pression de vapeur | 0,5 kPa à 25°C | |||||||
| Stabilité à l'air | réagir avec l'humidité de l'air pour former du HF. | |||||||
| Stabilité à l'eau | 25 g/L à 0 °C et s'hydrolyse pour former du HF | |||||||
| Solubilité | Soluble dans des solvants tels que BrF₅, BrF₃, IF₅, HF anhydre et CH₃CN, sans réduction ni oxydation. Sa solubilité dans HF est élevée, à 167 g pour 100 g de HF à 29,95 °C.°C. | |||||||
description du produit
Le difluorure de xénon (XeF₂) est un solide incolore de masse moléculaire 169,30. Il se sublime facilement à température ambiante et forme des cristaux transparents. Le difluorure de xénon se décompose en solution neutre ou alcaline, mais est stable en solution acide et dégage une odeur âcre en solution aqueuse. Ses vapeurs sont incolores et nauséabondes. Dans l'industrie électronique, le XeF₂ est souvent utilisé comme gaz de gravure du silicium. La réaction chimique entre le XeF₂ et le silicium est spontanée. Le processus de corrosion du silicium par le XeF₂ présente une sélectivité élevée. Lors de ce processus, le XeF₂ atteint la surface du substrat de silicium par diffusion gazeuse et réagit avec les atomes de silicium les plus externes pour générer du xénon gazeux et du fluorure de silicium gazeux, provoquant ainsi la corrosion du silicium.
Voici un aperçu détaillé des propriétés physiques du xénon difluoré :
Utilisations
Le XeF2 est utilisé dans la synthèse d'autres fluorures de xénon, qui sont importants dans l'étude de la chimie du fluor et dans les applications industrielles.
Il est également utilisé dans l'industrie électronique pour les procédés de gravure.
Sécurité
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