Trichlorosilane TCS (SiHCl3)
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Contactez-nousCaractéristiques
| Pureté, % | 99,95 |
| Résistivité | ≥ 300 ohm-cm |
| Bore | ≤ 0,1 ppba de silicium |
| Carbone total | ≤ 5 ppma |
| Fer | ≤ 5 ppba |
| Autres chlorosilanes | ≤ 500 ppm |
Informations techniques
| État du cylindre à 21,1 °C | Liquide |
| Limites d'inflammabilité dans l'air | 7-83% |
| Température d'auto-allumage (°C) | 182 |
| Masse moléculaire (g/mol) | 135,45 |
| Densité relative (air = 1) | 4,67 |
| Température critique ( °C ) | 242,5 |
| Pression critique (psig) |
Description
Le trichlorosilane est un composé inorganique de formule HCl₃Si. C'est un liquide incolore et volatil. Le trichlorosilane purifié est le principal précurseur du silicium ultrapur dans l'industrie des semi-conducteurs. Dans l'eau, il se décompose rapidement pour former un polymère de siloxane tout en libérant de l'acide chlorhydrique. Du fait de sa réactivité et de sa grande disponibilité, il est fréquemment utilisé dans la synthèse de composés organiques contenant du silicium.
Le trichlorosilane est extrêmement réactif et peut réagir violemment (voire de manière explosive) avec de nombreux composés, notamment l'eau, pouvant produire du dioxyde de silicium, du chlore, de l'hydrogène, du chlorure d'hydrogène (et sa forme aqueuse, l'acide chlorhydrique) et de la chaleur. Le trichlorosilane peut provoquer des réactions chimiques dangereuses au contact de l'humidité et doit être manipulé et stocké sous atmosphère inerte. En cas de déversement, il est possible de neutraliser le trichlorosilane avec une solution d'hydroxyde de sodium à parts égales (1:1) ou avec une solution de bicarbonate de sodium à parts égales (2:1). Les incendies peuvent être éteints à l'aide d'une mousse filmogène aqueuse résistante à l'alcool.
Applications
● Dans les réactions chimiques organosiliciées
● Dans la fabrication des semi-conducteurs : dépôt épitaxial de silicium.
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