Tétrachlorure de silicium (SiCl4)
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Contactez-nousdescription du produit
| Pureté, % | 99,94 |
| Résistivité | ≥ 300 ohm-cm |
| Bore | ≤ 0,3 ppba silicium |
| Aluminium | ≤ 50 ppbw |
| Carbone | ≤ 1,0 ppma |
| Fer | ≤ 50 ppbw |
| Autres chlorosilanes | ≤ 600 ppm |
Informations techniques
| État du cylindre à 21,1 °C | Liquide |
| Limites d'inflammabilité dans l'air | Ininflammable |
| Température d'auto-allumage (°C) | - |
| Masse moléculaire (g/mol) | 169,89 |
| Densité relative (air = 1) | 5,889 |
| Température critique ( °C ) | 233,85 |
| Pression critique (psig) | 529,05 |
description
Le tétrachlorure de silicium est un liquide corrosif, incolore et ininflammable, à l'odeur suffocante. Ses vapeurs sont irritantes pour les muqueuses et forment des fumées denses au contact de l'air humide. Il s'hydrolyse rapidement en milieu humide, libérant du chlorure d'hydrogène.
Le tétrachlorure de silicium est utilisé comme intermédiaire dans la fabrication du polysilicium, une forme de silicium ultra-pure, car son point d'ébullition se prête bien à la purification par distillation fractionnée répétée. Le polysilicium ainsi produit est utilisé en grandes quantités sous forme de plaquettes par l'industrie photovoltaïque pour les cellules solaires conventionnelles en silicium cristallin, ainsi que par l'industrie des semi-conducteurs. Le tétrachlorure de silicium peut également être hydrolysé en silice pyrogénée. Le tétrachlorure de silicium de haute pureté est utilisé dans la fabrication des fibres optiques. Ce type de tétrachlorure doit être exempt d'impuretés contenant de l'hydrogène, comme le trichlorosilane. Les fibres optiques sont fabriquées par des procédés tels que le dépôt chimique en phase vapeur assisté par membrane (MCVD) et le dépôt par oxydation oxydative (OFD), où le tétrachlorure de silicium est oxydé en silice pure en présence d'oxygène. Il sert également de matière première pour la production de silice fondue.
Applications
● Dans la fabrication des semi-conducteurs, applications du silicium épitaxié.
● Dans la fabrication des semi-conducteurs, la gravure plasma des métaux.
● Dans les procédés organo-silicium.
● Dans la fabrication de fibres de silice fondue.
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