01
01
Trifluorure de chlore (ClF3)
N'hésitez plus ! Contactez-nous dès maintenant !
Contactez-nousCaractéristiques
| Pureté, % | 99,9 |
| Oxygène | ≤20 ppmv |
| Azote | ≤50 ppmv |
| Fluorure d'hydrogène | ≤700 ppmv |
Informations techniques
| État du cylindre à 21,1 °C | Liquide |
| Limites d'inflammabilité dans l'air | Ininflammable |
| Température d'auto-allumage (°C) | - |
| Masse moléculaire (g/mol) | 66.007 |
| Densité relative (air = 1) | 3.14 |
| Température critique ( °C ) | 23,85 |
| Pression critique (psig) | 823.2 |
description du produit
Le trifluorure de chlore est un gaz incolore et corrosif, à l'odeur douceâtre, très irritant même à faible concentration. Puissant oxydant, il provoque l'inflammation de nombreux composés organiques et de nombreux métaux à haute température. Il réagit violemment avec l'eau. Il est transporté sous forme de gaz liquéfié sous sa propre pression de vapeur. Le trifluorure de chlore est un composé interhalogéné de formule ClF₃. Ce gaz incolore, toxique, corrosif et extrêmement réactif se condense en un liquide jaune-verdâtre pâle, forme sous laquelle il est le plus souvent commercialisé (sous pression à température ambiante). Il est réputé pour ses propriétés oxydantes extrêmes. Ce composé est principalement utilisé dans les opérations de nettoyage et de gravure sans plasma dans l'industrie des semi-conducteurs, dans le traitement du combustible des réacteurs nucléaires, et historiquement comme composant des propergols pour fusées, ainsi que dans diverses autres applications industrielles en raison de sa nature corrosive.
Dans l'industrie des semi-conducteurs, le trifluorure de chlore est utilisé pour nettoyer les chambres de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il permet d'éliminer les résidus de matériau semi-conducteur des parois de la chambre sans avoir à la démonter. Contrairement à la plupart des autres produits chimiques utilisés à cette fin, il ne nécessite pas d'activation par plasma, la chaleur de la chambre étant suffisante pour provoquer sa décomposition et sa réaction avec le matériau semi-conducteur. Le ClF₃ est utilisé pour la fluoration de divers composés.
Applications
Dans l'industrie des semi-conducteurs, le trifluorure de chlore est utilisé pour nettoyer les chambres de dépôt chimique en phase vapeur. Son avantage réside dans sa capacité à éliminer les résidus de matériau semi-conducteur des parois de la chambre sans démontage. Contrairement à la plupart des autres produits chimiques utilisés à cette fin, il ne nécessite pas d'activation par plasma, la chaleur de la chambre suffisant à provoquer sa décomposition et sa réaction avec le matériau semi-conducteur.
description2











